在芯片制造过程中，掩模对准设备起着关键作用。据悉，光刻机是芯片制造中最关键、最核心的部件，占芯片生产总成本的30%。此外，掩模对准器的光刻精度也影响芯片制造工艺水平。

虽然美国、日本、韩国和中国都有能够生产掩模对准器的企业，但大多数芯片制造商需要从荷兰购买ASML设备。

打败日本面具对准器

在掩模对准器的帮助下，荷兰ASML公司多年来一直在半导体设备制造商名单中排名第二，仅次于美国应用材料公司。

值得一提的是，荷兰ASML成立时，在口罩对准器市场没有话语权。20世纪80年代，口罩对齐器行业由日本制造商主导，而ASML只有30名左右的员工，甚至连公司都建在垃圾桶旁边。

最重要的是，无论是技术积累还是客户积累，荷兰ASML都不是日本公司的对手，市场也没有希望。

想必ASML在成立之初，并没有想到ASML只用了20年就完成了对日企的反击。并在接下来的20年里，稳稳地守住世界的宝座。

ASML统治着世界

事实上，ASML的快速发展与M&A政策的实施有很大关系。掩模对准器的本质是投影仪和相机的结合。该装置以光为刀，将投影在硅片上的电路图雕刻出来，最终得到集成电路芯片。

当时日本厂商能够主导掩模对准器市场，很大程度上得益于日本先进的相机技术，光学产业的优势向半导体产业扩散，帮助日本厂商建立了领先地位。

荷兰的ASML虽然技术储备不多，但通过收购MaskTools和Silicon Valley Group，填补了光学技术、扫描和成像能力的不足，成功登上了主流厂商的台面。

真正帮助ASML主宰世界的是一个选择。上世纪末，掩模对准器中光源的波长停留在193纳米。谁能率先突破，谁就能主导口罩对准器市场。

当时，以尼康为首的日本厂商选择了保守的153nm F2激光器，而荷兰ASML则押注于更激进的EUV技术。两种不同的选择也给两家厂商带来了不同的结果。

做出巨大贡献的TSMC工程师

值得一提的是，EUV技术的优势并没有帮助ASML在当时确立领先地位。TSMC工程师林本健为ASML成为全球霸主做出了巨大贡献。

如前所述，ASML反击日系和光刻机厂商的关键是ASML率先突破193nm，ASML的解决方案来自林本坚。

当时的掩模对准器厂商都采用了传统的干法光刻方案，而林本坚提出了浸没式光刻方案。与干法光刻方案相比，浸没式光刻方案加入水可以实现更多的折射，光源直接穿越157nm到132nm。从那以后，ASML在技术上领先日本制造商超过一代。

最重要的是，ASML允许客户在获得技术优势后排队。为了获得设备交付的优先权，许多铸造厂在ASML投资。

比如TSMC、英特尔、三星等知名巨头，其实都是ASML的股东。

这也导致大客户涌入ASML公司阵营，当资源集中在指定厂商时，第一名和下一名的差距越来越大。

目前，ASML仍然是唯一有能力生产EUV口罩对准器的厂商，根据最新官方消息，ASML已经完成了1nmEUV口罩对准器的设计。可见，ASML与竞争对手的差距已经超过一代人。

短期来看，ASML在口罩对准器市场的地位不会被其他厂商取代，但可能会越来越大。这也是中国芯片厂商必须面对和克服的难题，国内厂商要想打破困境，可能只有等到下一个林本坚出现。

文/京审/资阳校正/邱智