就在包括三星、SK海力士在内的韩国内存厂商开始使用EUV掩膜版校准器设备进行内存生产之后，美国美光科技现已准备加入EUV掩膜版校准器的生产行列。根据美光前几天在财报会上所说，美光目前正在与EUV掩模对准器大厂商ASML进行谈判，预计EUV掩模对准器生产的内存将在2024年生产。
据美光科技总裁兼CEO Sanjay Mehrotra介绍，在近日的财务报告会上，美光过去一直关注EUV口罩对准器在生产方面的进展，之前实际参与了EUV技术的生产和开发。在观察了EUV面膜贴片机和整个生态系统的成熟后，美光开始将EUV面膜贴片机加入到内存生产的产品规划中。
在本次财务报告会上，美光略微增加了2021财年的资本支出至95亿美元，其中已开始与ASML洽谈购买EUV口罩对准器事宜。然而，美光尚未公布细节。现阶段EUV口罩对准器供应紧张。由于在TSMC和三星的大量采购，美光不得不等到与ASML完成采购谈判。
事实上，台省投资金额最大的外资公司美光并没有使用EUV的掩膜版校准器，而是使用上一代的深紫外掩膜版校准器来生产内存。这是非常关注美光成功研发无EUV掩模对准器的10纳米DRAM，这是目前全球市场份额领先的韩国三星sk海力士的两大内存厂商。因为ASML EUV掩模对准器的成本高达1.5亿美元一个，生产出来的内存成本会更高。而Micron通过使用DUV掩模对准器可以生产出同级别的存储产品，价格更便宜，更有竞争力。根据美光的计划，EUV口罩对准器预计要到2024年才能进口。它将首次用于1-Gama 10纳米工艺存储器，并将进一步扩展到下一代1- Delta 10纳米存储器的生产。
