美国封锁被打破了？中国口罩对准器最后一块拼图完成了吗？首套光学镜面镀膜设备投入使用？今天，小姚就带大家一起去拾起它背后的故事。在这场芯片大战中，芯片领域的很多不足被暴露出来，但在我国科研人员和企业努力的条件下，我们一次又一次取得了突破。让我们在芯片领域拥有自己的技术！目前，SMIC的14纳米芯片在产量方面与TSMC相当。这对我们来说无疑是个好消息。但目前要想在高端芯片中占据一席之地，离不开EUV掩模对准器。然而，这个人们担心了很久的EUV口罩对准器还没有建成。为什么呢？造一个EUV口罩对准器真的那么难吗？

其实，中国制造的EUV口罩对准器只是最后一块拼图！ASML CEO曾经说过:即使你给我们口罩对准器的图纸，我们也做不出口罩对准器。这句话听起来像是你想给他反手一击。但我不得不承认，掩模对准器的制造绝非易事。否则，ASML他们是不敢说这种自吹自擂的话的。但是有时候，你说得越难，你做鬼脸的速度就越快！根据EUV掩模对准器组件的有效性程度，我们将其分为三层。双载物台、EUV光源和EUV光学镜头是高端EUV光刻机的三大核心部件。目前，我国已成功突破并可应用于EUV光刻机的EUV光源。阿斯曼采用的EUV光刻机的光源，之前一直被美国和德国垄断。因此，两者之间必须有一些技术交流。

曾经这个EUV光源对我们来说确实是个难题，但任何问题都无法打败我们的国家。据央视新闻联播，由国家发展改革委支持，中国科学院高能物理研究所承担，国内首台于2021年6月28日上午装机。如果你喜欢小姚的视频，请阅读官方和大师帮小姚按下赞键6秒，给小姚一个超级赞。在此，小姚首先要感谢大家。此外，中科柯美传来好消息，他们研发的设备——线性劳厄透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置——于2021年6月28日正式投入使用。

我们上面已经说了，EUV光刻机有三个核心部件，都是在光源领域，参与这个领域的研究，都在中科院高能物理研究所。而且我们研究的高能同步辐射光源都已经全部安装应用，这是我国首次研制出高能同步辐射光源。有了这项光源技术的突破，我们在设备上完全实现了全流程国产化，在实现辐射光源国产化的同时，这项技术也将应用到更广泛的使用场景中，包括光刻机！

光刻机内部有10多万个零件，可以说是相当复杂。然而，光刻机一个必不可少的核心技术就是光源技术的问题。目前全球光刻机巨头虽然是assmann，但他90%的光刻机技术都是从国外进口的。其中，27%的光源技术来自美国，而其中，EUV光刻机所占比例极大。因此，在美国发布芯片禁令后，阿斯曼很难向我们出售EUV光刻机。根据美国的规定，只要含有美国技术的产品在出售给他人之前必须经过批准。

话说回来，你不能卖，我们也不能站着不动，对吧？那我们只能无奈地进行自主研发。现在，光源问题已经很好地解决了。现在只有EUV光学镜头和EUV光刻镜头两个阶段的制造工艺问题，难度更大，因为它们面向更高的制造工艺，硅基晶体管芯片更多。EUV掩模对准器对镜片镜面光洁度的要求很高，其光洁度不应超过50皮米。这项技术现在对我们来说非常困难。目前，全球唯一能生产EUV口罩对准镜片的公司是德国蔡司。但是也有一个问题，就是在蔡司，只有20个工程师达到了制造EUV口罩对准器镜片的技术水平。这些人不能给我们提供技术或帮助。但还是那句老话，有困难就解决。没有什么我们不能做的。目前中科易科使用的true 空镀膜设备，虽然是50皮米的两倍高，但是可以将膜厚精度控制在0.1 nm以内，也就是100皮米以内。

但这至少让我们在EUV口罩对准器上实现了又一次突破！实现高精度纳米级镀膜工艺。而且，这里还有一个非常重要的细节。中科易科引进的涂装设备所包含的技术，从关键零部件的生产到整个设备系统的运行机制，都掌握在我们自己手中。这是真正的国产设备！中科易科引进的镀膜设备适用于掩模对准透镜的制备。可以说，它的出现让我们在掩模对准器的镜头领域实现了突破，也减轻了我们在掩模对准器整体制造上的压力！这也是帮助中国芯片实现完全自主的核心要素。结合中国科学院高能物理研究所正在安装的高能同步辐射光源，可以说这是双管齐下。根据连线，截至2021年6月底，高能同步辐射光源安装工程已完成，达到70%。有了这个匹配的设备单元，预计所有设备将在2022年初交付。高能同步辐射光源是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。不仅对芯片领域和掩模对准器光源有帮助，对大多数航天设备也有帮助！这一突破也为我国高端芯片制造工艺的发展提供了重要的装备保障！

我国的高能同步辐射光源设备不仅具有国家技术和自主设计，还具有国家能源加工的特点。说白了，这一次，我们不会被别人牵着鼻子走，因为所有的技术和设备生产都是我们自己能搞定的！

在半导体光源领域，中国科学院和中国科学院取得的成果弥补了我国高端光学设备领域的空空白。不知道大家有没有注意到，从芯片制造工艺开始到现在，我们经历了芯片的匮乏，这对我们的半导体领域有一定的影响。然而，如果我们回头看看以前的芯片巨头，他们现在并不太舒服。让我们以ASML为例。现在我们对我们的态度发生了很大的变化。以前不敢卖东西给我们，现在积极降价卖28nm的口罩对准器。其实所有这些变化都是由于我们在半导体领域一次又一次的突破，这也让原本的掩模对准巨头们看到了危机。一个EUV口罩对准器需要10万个零件，即使是ASML也不可能完全独立。可能很多西方人不明白我们中国孩子有多团结！面对苦难，我们的潜力是无限的！因此，最终，我国克服了许多困难，创造了一个又一个奇迹。第一台光学镜面镀膜设备正式投入使用，所有不可能的可能都完成了。我为我的祖国感到骄傲！

这段视频就到这里。别忘了表扬和关注你喜欢的朋友。下次见！